GSF系列高精密電子束蒸發(fā)光學(xué)真空鍍膜機
日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:24214
GSF高精密電子束蒸發(fā)光學(xué)真空鍍膜機的工作原理是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接利用電子束加熱,使膜材中的原子或分子從表面汽化逸出后入射到基片表面凝結(jié)成膜。電子束蒸發(fā)比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快,制成的薄膜純度高。
光學(xué)鍍膜設(shè)備可鍍制層數(shù)較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質(zhì)膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜系,能夠?qū)崿F(xiàn)0-90層膜的膜系鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠(yuǎn)鏡、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求。配置不同的蒸發(fā)源、電子槍和離子源及膜厚儀可鍍多種膜系,對金屬、氧化物、化合物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍。
1)、高精密光學(xué)鍍膜機配備有石英晶體膜厚儀、光學(xué)膜厚自動控制系統(tǒng),采用PLC與工業(yè)電腦配合自主研發(fā)的PY3100系統(tǒng)聯(lián)合實現(xiàn)對整個工作過程的全自動控制,可以實現(xiàn)無人值守,從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。
2)、大抽速真空系統(tǒng)加配深冷裝置,優(yōu)秀的動態(tài)真空能力,為復(fù)雜的光學(xué)膜系制備提供了必要的真空條件保障。
3)、蒸發(fā)分布穩(wěn)定、性能可靠的E型電子槍,優(yōu)化設(shè)計的蒸發(fā)源與工件架之間的位置關(guān)系,為精密膜系的實現(xiàn)調(diào)工了膜料蒸發(fā)分布方面的保障。
4)、平穩(wěn)而高速旋轉(zhuǎn)的工件架轉(zhuǎn)動系統(tǒng),使工件架內(nèi)外圈產(chǎn)品光譜曲線更趨于一致。
5)、適用于光學(xué)領(lǐng)域行業(yè),大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)高端要求的廠商使用。
GSF高精密電子束蒸發(fā)光學(xué)真空鍍膜機 |
型號 | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真空室尺寸 | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 | KT500擴散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 |
鍍膜系統(tǒng) | 電子槍蒸發(fā)源、鍍膜輔助離子專用電源或霍爾離子源 |
充氣系統(tǒng) | 壓強控制儀 |
控制方式 | 半自動或全自動 |
膜厚監(jiān)控系統(tǒng) | 石英晶體膜厚監(jiān)控系統(tǒng)、光學(xué)膜厚監(jiān)控系統(tǒng) |
抽氣速率 | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限真空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注 | 以上設(shè)備參數(shù)僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設(shè)計訂做 |