如何掌控真空鍍膜的均勻性
我們先來認(rèn)識下怎么調(diào)試鍍膜機(jī)，因?yàn)檎莆照{(diào)試鍍膜機(jī)是使用鍍膜機(jī)的關(guān)鍵怎么調(diào)試鍍膜機(jī)
1、測試設(shè)備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能；
2、測試設(shè)備的密封性能，就是抽到極限后保壓1小時看壓降是否達(dá)標(biāo)，同時排除細(xì)小的漏孔；
3、產(chǎn)品試作，檢驗(yàn)其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保證的話就繼續(xù)打樣并作測試。
5、所有的測試應(yīng)作記錄，并有記錄人簽字以及有使用部門或工程部門的人確認(rèn)簽字

怎么掌控真空鍍膜的均勻性？
由于車燈鍍膜機(jī)原理的不同分為很多種類，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱。所以對于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，下面分別說一下：

均勻性主要體現(xiàn)在3方面：
1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于多弧離子鍍膜機(jī)的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在。
2、化學(xué)組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機(jī)過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。
3、晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題。