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一. 鍍層附著性能好
普通真空鍍膜時(shí),蒸發(fā)料粒子大約只以一個(gè)電子伏特的能量向工件表面蒸鍍,在工件表面與鍍層之間,形成的界面擴(kuò)散深度通常僅為幾百個(gè)埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。也就是說比一根頭發(fā)絲的百分之一還要小。兩者間可以說幾乎沒有連接的過渡層,好似截然分開。而離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能。如果說普通真空鍍膜的粒子相當(dāng)于一個(gè)氣喘吁吁的長跑運(yùn)動(dòng)員,那么離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客,當(dāng)其高速轟擊工件時(shí),不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層,離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米,也就是說比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特別牢。對(duì)離子鍍后的試件作拉伸試驗(yàn)表明,一直拉到快要斷裂時(shí),鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸,無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生。
二.繞鍍能力強(qiáng)
離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運(yùn)動(dòng),因而凡是有電場存在的部位,均能獲得良好鍍層,這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此,這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面,蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣,只順梯而上;離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中,帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī),能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。
三. 鍍層質(zhì)量好
離子鍍的鍍層組織致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復(fù),不致形成金屬瘤。像螺紋一類的零件也能鍍復(fù),由于這種工藝方法還能修補(bǔ)工件表面的微小裂紋和麻點(diǎn)等缺陷,故可有效地改善被鍍零件的表面質(zhì)量和物理機(jī)械性能。疲勞試驗(yàn)表明,如果處理得當(dāng),工件疲勞壽命可比鍍前高百分之二、三十.