通俗的定義為在正常狀況下,其應(yīng)用功能不會(huì)失效。
想要達(dá)到這個(gè)目的,一般而言這層薄膜必須具有堅(jiān)牢的附著力、很低的內(nèi)應(yīng)力、針孔密度很少、夠強(qiáng)的機(jī)械性能、均勻的膜厚、以及足夠的抗化學(xué)侵蝕性。
薄膜的特性主要受到沉積過程、成膜條件、接口層的形成和基材的影響,隨后的熱處理亦扮演重要角色。
沉積的薄膜有內(nèi)應(yīng)力的存在,其來源為何?
薄膜和基材之間的晶格失配
薄膜和基材之間的熱膨脹系數(shù)差異
晶界之間的互擠