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膜厚的量測方法大致上可分為原位量測、離位量測兩類
原位星測系指鍍膜進(jìn)行中量測,普遍使用在物理氣相沉積,如微天平、光學(xué)、電阻量測。
離位量測系指鍍膜完成后量測,對電鍍膜的行使較為普遍,具有了解電鍍效率的目的,如質(zhì)量、剖面計(jì)、掃描式電子顯微鏡。