真空蒸發(fā)鍍膜是指在真空條件下,通過蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術(shù)。
被蒸發(fā)的物質(zhì)被稱為蒸鍍材料。蒸發(fā)鍍膜最早由 M.法拉第在 1857年提出,經(jīng)過一百多年的發(fā)展,現(xiàn)已成為主流鍍膜技術(shù)之一。
真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)一般由三個部分組成:真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。
在真空中為了蒸發(fā)待沉積的材料,需要容器來支撐或盛裝蒸發(fā)物,同時需要提供蒸發(fā)熱使蒸發(fā)物達到足夠高的溫度以產(chǎn)生所需的蒸汽壓。
真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)具有簡單便利、操作方便、成膜速度快等特點,是應(yīng)用廣泛的鍍膜技術(shù),主要應(yīng)用于光學(xué)元器件、LED、平板顯示和半導(dǎo)體分立器的鍍膜。
真空鍍膜材料按照化學(xué)成分主要可以分為金屬/非金屬顆粒蒸發(fā)料,氧化物蒸發(fā)料,氟化物蒸發(fā)料等。