氣體的分布狀況對于平板基片鍍膜來說是極其重要的，通過機(jī)械結(jié)構(gòu)設(shè)計，使氣體密度的變化率在濺射沉積區(qū)域內(nèi)的盡量小。

而在區(qū)域外，使系統(tǒng)的流導(dǎo)盡量的大，以提高氣體的利用率和抽氣系統(tǒng)的效率。

控制氣體分布的機(jī)械部件或結(jié)構(gòu)包括布?xì)庀到y(tǒng)、真空室的結(jié)構(gòu)、抽氣系統(tǒng)等三個部分。