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射頻磁控濺射
作者: 來源: 日期:2021-04-26 8:57:00 人氣:1764
用來進(jìn)行介質(zhì)膜的濺射,如在玻璃上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴(kuò)散隔離層,該SiO2膜就是采用射頻濺射。
通常在濺射過程中輝光放電中的離子撞擊到陰極時,會與陰極的電子中和,是的濺射現(xiàn)象可以繼續(xù)進(jìn)行。
但若靶材本身不導(dǎo)電的話,離子撞擊到靶材上沒有電子中和,
正電荷一直累積,使與后來的離子排斥,這會造成取代直流電源,使可解決此離子撞擊現(xiàn)象的停頓。
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