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什么是PVD?

作者: 來源: 日期:2017-10-21 18:09:35 人氣:5810

      

        PVD是物理氣相沉積的縮寫。物理氣相沉積描述了各種真空沉積方法,其可廣泛用于在諸如塑料,玻璃,金屬,陶瓷等的不同基底上生產(chǎn)薄膜和涂層. PVD的特征在于其中材料從固態(tài)到氣態(tài),然后回到薄膜固態(tài)。最常見的PVD工藝是離子,濺射,電子束和蒸發(fā)。 PVD用于制造需要用于機(jī)械,光學(xué),化學(xué)或電子功能的薄膜的物品。

  工業(yè)常見PVD涂層如CuAl,Cr,Au,Ni的純金屬膜,和TiN,TiC,TiCN,TiAlN,ZrNCrN,CrSiNZrTiCN,TiAlCNZrC,TiALN,DLC等復(fù)合膜。

常見PVD真空鍍膜機(jī):

陰極電弧離子PVD真空鍍膜機(jī):靶材在放電的高功率電弧作用下將其上物質(zhì)噴射沉積在工件上。

電子束PVD真空鍍膜機(jī):待沉積的材料,在“高”真空中的電子轟擊中,冷凝沉積在工件上。

蒸發(fā)PVD真空鍍膜機(jī):待沉積的材料,在“高”真空中,通過電阻加熱,冷凝沉積在工件上。

磁控濺射PVD真空鍍膜機(jī):發(fā)出輝光等離子體放電(通常通過磁體定位在“靶”周圍),材料濺射沉積在工件上。

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