什么是PVD 技術(shù)
PVD-物理氣相沉積:指利用物理過程實現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移,將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。
它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能。
PVD基本方法:真空蒸鍍、濺鍍 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。
PVD 技術(shù)是目前國際上科技含量高且被廣泛應(yīng)用的離子鍍膜技術(shù),它具有 鍍膜層致密均勻、附著力強、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點.
PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態(tài)下,等離子場下的輝光反應(yīng),亦是一個高凈化處理過程;鍍層的主要原材料是以鈦金屬為主,鈦是金屬中最與人體皮膚具親和性能的,使得PVD 產(chǎn)品本身具備純凈的環(huán)保性能。