濺射靶材： 濺射靶材按形狀分類：矩形平面靶材、圓形平面靶材、圓柱靶材

濺射靶材按成分分類：單質(zhì)金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材

平面靶材利用率比較低，只有30%左右，沿著環(huán)形跑道刻蝕。 

靶材冷卻與靶背板 

1. 靶功率密度與靶材冷卻：靶功率越大，濺射速度越大；靶允許的功率與靶材的性質(zhì)及冷卻有關(guān)；靶材采用直接水冷，允許的靶功率高。

2. 靶背板 target backplane

使用場合：ITO,SiO2,陶瓷等脆性靶材及燒結(jié)靶材Sn(錫）, In（銦）等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴

材質(zhì)要求：

導(dǎo)熱性好---常用無氧銅，無氧銅的導(dǎo)熱性比紫銅好；強(qiáng)度足夠---太薄，容易變形，不易真空密封。 

結(jié)構(gòu)： 

空心或者實(shí)心結(jié)構(gòu)---磁鋼不泡或泡在冷水中；厚度適當(dāng)---太厚，消耗部分磁強(qiáng)；太薄，容易變形。